Beam Plasma Source

WO2026010915 Art A1 8. Januar 2026

Anmelder: SCION PLASMA, LLC, FAN, Qi, Hua, STEVENSON, David, BOARD OF TRUSTEES OF MICHIGAN STATE UNIVERSITY, ZHOU, Li, Qin 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026010915
Aktenzeichen: EP25833680
Anmeldetag: 1. Juli 2025
Veröffentlichung: 8. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/08H01J37/305H01J37/32H01J27/14

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: SCION PLASMA, LLC
FAN, Qi, Hua
STEVENSON, David
BOARD OF TRUSTEES OF MICHIGAN STATE UNIVERSITY
ZHOU, Li, Qin
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Board of Trustees of Michigan State University

Der Anmelder verwaltet das Patentportfolio der Michigan State University in den USA. Die Anmeldungen konzentrieren sich auf Medizintechnik, organische Chemie und Pharma- und Biotechnologie sowie auf Halbleiterbauelemente und Landwirtschaftstechnik. Der Aktivitätszeitraum reicht von 2002 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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