Semiconductor structure, manufacturing method for semiconductor structure, device, and apparatus
WO2026011770
Art A1
15. Januar 2026
Anmelder: PEKING UNIVERSITY 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026011770
- Aktenzeichen
- EP25835679
- Anmeldetag
- 17. Februar 2025
- Veröffentlichung
- 15. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H10D84/01
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- PEKING UNIVERSITY
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Peking University
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