Substrate processing apparatus and substrate processing method
WO2026012015
Art A1
15. Januar 2026
Anmelder: ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026012015
- Aktenzeichen
- EP25835918
- Anmeldetag
- 4. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 15. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ACM RESEARCH (SHANGHAI), INC.
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
ACM Research (Shanghai)
ACM Research (Shanghai) ist die chinesische Tochtergesellschaft des US-notierten Halbleiterausrüsters ACM Research mit Sitz in Shanghai, der Reinigungs- und Beschichtungsanlagen für die Chipfertigung herstellt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie- und Verfahrenstechnik. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2007 bis 2025 ab.
260 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.