Substrate support, method for loading a substrate on a substrate support and lithographic apparatus

WO2026017397 Art A1 22. Januar 2026

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2026017397
Aktenzeichen
EP25739770
Anmeldetag
1. Juli 2025
Veröffentlichung
22. Januar 2026
Rechtsraum
WO
IPC
H10P72/76G06F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen