Photoelectron microscope and defect detection method

WO2026018299 Art A1 22. Januar 2026

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026018299
Aktenzeichen: EP24947982
Anmeldetag: 16. Juli 2024
Veröffentlichung: 22. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/227

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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