Charged particle beam device, and method of adjusting charged particle beam device

WO2026018332 Art A1 22. Januar 2026

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2026018332
Aktenzeichen
EP24947918
Anmeldetag
17. Juli 2024
Veröffentlichung
22. Januar 2026
Rechtsraum
WO
IPC
H01J37/05H01J37/22
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen