Composition for forming protective film and semiconductor substrate manufacturing method

WO2026018782 Art A1 22. Januar 2026

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026018782
Aktenzeichen: EP25840912
Anmeldetag: 11. Juli 2025
Veröffentlichung: 22. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: C09D183/04C08F290/12C08F290/14C08G77/20G03F7/075H10P14/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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