Novel overlayer films and methods for etching silicon-containing materials using a low temperature dry chemical etch process
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF COLORADO 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026019469
- Aktenzeichen
- EP25841331
- Anmeldetag
- 30. April 2025
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF COLORADO - Land
- 🇯🇵 Japan
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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The Regents of the University of Colorado ist die Trägerkörperschaft der US-amerikanischen University of Colorado und verwaltet deren Patentrechte. Das Portfolio konzentriert sich auf Medizintechnik/Gesundheit sowie Pharma/Biotechnologie und organische Chemie, ergänzt durch Mess- und Optiktechnik. Die Titel betreffen unter anderem Ätzverfahren für siliziumhaltige Materialien und Behandlungen von Reperfusionsschäden nach Herzinfarkt.
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