Chemical mechanical polishing using flexure mounted pad
WO2026019516
Art A1
22. Januar 2026
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026019516
- Aktenzeichen
- EP25841250
- Anmeldetag
- 17. Juni 2025
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B37/005B24B37/04B24B37/10B24B37/27H10P52/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
10.787 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.