Composition, its use and a process for selectively etching silicon-germanium layers

WO2026022021 Art A1 29. Januar 2026

Anmelder: BASF SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026022021
Aktenzeichen: EP25770652
Anmeldetag: 18. Juli 2025
Veröffentlichung: 29. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: H10P50/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: BASF SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 BASF

Deutscher Chemiekonzern mit Sitz in Ludwigshafen, gegründet 1865. Entwickelt und produziert Chemikalien, Kunststoffe, Agrarprodukte und Materialien für zahlreiche Industriezweige.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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