Charged particle beam system and optical axis adjustment method

WO2026022997 Art A1 29. Januar 2026

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026022997
Aktenzeichen: EP24948089
Anmeldetag: 25. Juli 2024
Veröffentlichung: 29. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/04H01J37/147

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

3.840 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von