Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, polymer, monomer, and method for synthesizing monomer

WO2026023353 Art A1 29. Januar 2026

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026023353
Aktenzeichen: EP25844257
Anmeldetag: 1. Juli 2025
Veröffentlichung: 29. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/58G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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