Base material particles, base material particle production method, conductive particles, and conductive material
WO2026023475
Art A1
29. Januar 2026
Anmelder: NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026023475
- Aktenzeichen
- EP25844183
- Anmeldetag
- 15. Juli 2025
- Veröffentlichung
- 29. Januar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01B5/00H01R11/01H01B1/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NIPPON CHEMICAL INDUSTRIAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nippon Chemical Industrial
Nippon Chemical Industrial ist ein japanischer Chemiehersteller mit Sitz in Tokio, der unter anderem anorganische Feinchemikalien und leitfähige Partikel produziert. Das Patentportfolio konzentriert sich auf anorganische Chemie sowie Halbleiter- und elektrische Bauelemente. Die Anmeldungen decken den Zeitraum von 2000 bis 2025 ab.
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