Composition for forming protective film, protective film, method for manufacturing substrate, and method for manufacturing semiconductor device

WO2026023595 Art A1 29. Januar 2026

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026023595
Aktenzeichen: EP25844055
Anmeldetag: 22. Juli 2025
Veröffentlichung: 29. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: C08G59/42C08G63/685G03F7/004G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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