Method for selective growth of tmd and substrate having selectively grown tmd

WO2026023819 Art A1 29. Januar 2026

Anmelder: TDS INNOVATION INC., KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026023819
Aktenzeichen: EP25844856
Anmeldetag: 20. Mai 2025
Veröffentlichung: 29. Januar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: C30B25/16C30B29/46H10P10/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TDS INNOVATION INC.
KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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