Process gas nozzle and semiconductor process chamber

WO2026026514 Art A1 5. Februar 2026

Anmelder: BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2026026514
Aktenzeichen
EP25846960
Anmeldetag
10. Juli 2025
Veröffentlichung
5. Februar 2026
Rechtsraum
WO
IPC
C23C16/50C23C16/455C23C16/52
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
BEIJING NAURA MICROELECTRONICS EQUIPMENT CO., LTD.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

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