A high particle loaded thin film for use as a reactive ion etching mask and methods thereof

WO2026027952 Art A1 5. Februar 2026

Anmelder: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026027952
Aktenzeichen: EP25728235
Anmeldetag: 21. Mai 2025
Veröffentlichung: 5. Februar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G02B1/00B32B3/30H10P50/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 3M Innovative Properties

US-amerikanische Tochtergesellschaft des Mischkonzerns 3M, verwaltet Patente und geistiges Eigentum für Produkte aus Bereichen Klebetechnik, Materialwissenschaft und Konsumgüter.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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