Photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for manufacturing wiring board

WO2026028349 Art A1 5. Februar 2026

Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026028349
Aktenzeichen: EP24949637
Anmeldetag: 31. Juli 2024
Veröffentlichung: 5. Februar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/031G03F7/004G03F7/028

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RESONAC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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