Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern forming method, and method for producing electronic device

WO2026028674 Art A1 5. Februar 2026

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026028674
Aktenzeichen: EP25847510
Anmeldetag: 26. Juni 2025
Veröffentlichung: 5. Februar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C07D211/00C07D235/18C07D295/26C07D295/088C07D307/56C07D327/06C07D333/76C08F212/14C08F220/10G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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