Negative photosensitive resin composition, cured film using same, cured relief pattern production method, and semiconductor device

WO2026029152 Art A1 5. Februar 2026

Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026029152
Aktenzeichen: EP25848335
Anmeldetag: 31. Juli 2025
Veröffentlichung: 5. Februar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027C07D209/86C08F299/02G03F7/20G03F7/031G03F7/037

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

2.558 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von