Radiation-sensitive composition, resist pattern formation method, and compound

WO2026029200 Art A1 5. Februar 2026

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2026029200
Aktenzeichen: EP25848530
Anmeldetag: 4. August 2025
Veröffentlichung: 5. Februar 2026
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C25/00C07C69/14C07C69/76C07C69/92C07C381/12C07D317/70C07D321/10G03F7/20G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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