A method of forming a high-entropy oxide nanostructure
WO2026029709
Art A1
5. Februar 2026
Anmelder: NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY 🇸🇬
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2026029709
- Aktenzeichen
- EP25849089
- Anmeldetag
- 1. August 2025
- Veröffentlichung
- 5. Februar 2026
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C25B11/093C25B11/052C01B13/14C01G55/00C25B1/04B82B1/00B82B3/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
- Land
- 🇸🇬 Singapur
🇸🇬
Nanyang Technological University
Die Nanyang Technological University ist eine staatliche Forschungsuniversität in Singapur, die in den Bereichen Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologie international hoch angesehen ist.
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