Panel-level formation of logic-uppermost semiconductor device assemblies with multi-reticle dies and reticle-bridging conductors

WO2026030257 Art A1 5. Februar 2026

Anmelder: MICRON TECHNOLOGY, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2026030257
Aktenzeichen
EP25848424
Anmeldetag
28. Juli 2025
Veröffentlichung
5. Februar 2026
Rechtsraum
WO
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
MICRON TECHNOLOGY, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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