Verwendung von Reinigungsgas
EP1020236
Art B1
28. November 2007
Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED, TOKYO ELECTRON LIMITED, Central Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1020236
- Aktenzeichen
- EP00100440
- Anmeldetag
- 10. Januar 2000
- Veröffentlichung
- 28. November 2007
- Erteilung
- 28. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B08B5/00C23C16/44B08B9/00C23F1/12C23C14/56
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
TOKYO ELECTRON LIMITED
Central Glass Company, Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
1.099 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.253 Patente in unserer Datenbank