MOS-Anordnung mit einer vergrabenen Gate und Verfahren zur Herstellung

EP1033759 Art B1 3. Oktober 2012

Anmelder: Fairchild Semiconductor Corporation, Intersil Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1033759
Aktenzeichen
EP00102398
Anmeldetag
3. Februar 2000
Veröffentlichung
3. Oktober 2012
Erteilung
3. Oktober 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/78H01L29/739H01L29/74H01L21/336H01L21/331H01L21/332
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
Fairchild Semiconductor Corporation
Intersil Corporation
Land
🇺🇸 USA
Kanzlei
Boehmert & Boehmert München, Deutschland

Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.

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