Verfahren und Zusammensetzung zur Entfernung von Photoresistschichten

EP1035446 Art B1 30. September 2009

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1035446
Aktenzeichen: EP00103935
Anmeldetag: 25. Februar 2000
Veröffentlichung: 30. September 2009
Erteilung: 30. September 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/42H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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