Verfahren und Zusammensetzung zur Entschichtung von Photoresist

EP1043629 Art B1 13. Mai 2009

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha, MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1043629
Aktenzeichen: EP00105934
Anmeldetag: 23. März 2000
Veröffentlichung: 13. Mai 2009
Erteilung: 13. Mai 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/42H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Sharp Kabushiki Kaisha
MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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