Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets
EP1066899
Art B1
25. April 2007
Anmelder: HITACHI METALS, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1066899
- Aktenzeichen
- EP00114459
- Anmeldetag
- 5. Juli 2000
- Veröffentlichung
- 25. April 2007
- Erteilung
- 25. April 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B22F1/00C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI METALS, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Proterial
Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.
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