Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargets

EP1066899 Art B1 25. April 2007

Anmelder: HITACHI METALS, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1066899
Aktenzeichen
EP00114459
Anmeldetag
5. Juli 2000
Veröffentlichung
25. April 2007
Erteilung
25. April 2007
Rechtsraum
EP
IPC
B22F1/00C23C14/34
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
HITACHI METALS, LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

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