Waferhaltevorrichtung mit einer staubdichter Schichtabdeckung und Herstellungsverfahren
EP1089326
Art B1
21. März 2007
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1089326
- Aktenzeichen
- EP00308533
- Anmeldetag
- 28. September 2000
- Veröffentlichung
- 21. März 2007
- Erteilung
- 21. März 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
1.545 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Bubb, Antony John Allen
London, Großbritannien
67
Patente gesamt
19
Fachgebiete
5
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Wilson Gunn
Wilson Gunn · Manchester