Zusammensetzung zur Entfernung von Photoresist

EP1091254 Art B1 21. Januar 2009

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1091254
Aktenzeichen: EP00119370
Anmeldetag: 11. September 2000
Veröffentlichung: 21. Januar 2009
Erteilung: 21. Januar 2009
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/42H01L21/3213C11D7/10C11D7/26C11D7/32C11D11/00H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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