Positiv arbeitende Resistzusammensetzung und Verfahren zur Erzeugung von Resistmustern, das dieselbe benutzt
EP1103856
Art A1
30. Mai 2001
Anmelder: CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED, Central Glass Company, Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1103856
- Aktenzeichen
- EP00125919
- Anmeldetag
- 27. November 2000
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED
Central Glass Company, Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Central Glass
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.
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