Verbessertes Optisches Verfahren zur Messung von Dünnen Metallschichten
EP1144981
Art A2
17. Oktober 2001
Anmelder: Advanced Metrology Systems LLC, Advanced Metrology Systems, LLC, Koninklijke Philips Electronics N.V. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1144981
- Aktenzeichen
- EP00949388
- Anmeldetag
- 19. Juli 2000
- Veröffentlichung
- 17. Oktober 2001
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N21/17G01J3/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Advanced Metrology Systems LLC
Advanced Metrology Systems, LLC
Koninklijke Philips Electronics N.V. - Land
- 🇺🇸 USA
🇳🇱
Philips
Niederländisches Technologieunternehmen mit Sitz in Amsterdam, spezialisiert auf Medizintechnik, Diagnosegeräte, Patientenüberwachung sowie Gesundheits- und Wellnessprodukte.
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Fachgebiete
Vertreten von
Hackett, Sean James
Birmingham, Großbritannien
646
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33
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22
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Weitere Vertreter
-
van der Veer, Johannis Leendert
NoneEindhoven
-
Bakker, Hendrik
NoneEindhoven