Bakker, Hendrik
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Patente
500 gesamt| Patent | |||
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08.11.2023 · FEI Company
Mikroskopvorrichtung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 28.09.2012
Erteilt am 08.11.2023
Vertretung
Ziermann, Oliver · St. Wendel
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Zusammenfassung
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23.08.2023 · FEI Company
Tem-Gitter mit Hoher Kapazität
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 13.04.2015
Erteilt am 23.08.2023
Vertretung
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Zusammenfassung
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23.08.2023 · FEI Company
Interferometrisches Stehwellenmikroskop
Optik & Fototechnik
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Status
Angemeldet am 24.08.2016
Erteilt am 23.08.2023
Vertretung
Ziermann, Oliver · St. Wendel
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Zusammenfassung
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04.05.2022 · FEI Company
Röntgenstrahlenabbildungsverfahren
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 18.11.2015
Erteilt am 04.05.2022
Vertretung
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Zusammenfassung
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21.07.2021 · FEI Company
Verfahren und Vorrichtung zur Abbildung einer Probe mit Ptychographie
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 08.06.2017
Erteilt am 21.07.2021
Vertretung
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Zusammenfassung
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26.08.2020 · FEI COMPANY
Verbesserte Bearbeitung und Abbildung mittels Ionenstrahl einer Plasmaionenquelle
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 31.05.2013
Erteilt am 26.08.2020
Vertretung
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Zusammenfassung
Applicants have found that energetic neutral particles created by a charged exchange interaction between high energy ions and neutral gas molecules reach the sample in a ion beam system (299) using a plasma source (202, 201). The energetic neutral create secondary electrons away from the beam impact point. Methods to solve the problem include differentially pumped chambers (206, 210, 214) below the plasma source (202) to reduce the opportunity for the ions to interact with gas. |
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15.04.2020 · FEI COMPANY
Oberflächenentschichtung mit programmiertem Manipulator
Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 29.01.2015
Erteilt am 15.04.2020
Vertretung
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Zusammenfassung
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15.04.2020 · FEI Company
Befestigen von Nanoobjekten an Strahlabgeschiedenen Strukturen
Metallurgie & Oberflächentechnik
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 07.09.2016
Erteilt am 15.04.2020
Vertretung
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Zusammenfassung
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26.02.2020 · FEI Company
Kontaktlose Temperaturmessung in einem Ladungsträgerteilchenmikroskop
Halbleiter & Elektrische Bauelemente
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Status
Angemeldet am 10.11.2015
Erteilt am 26.02.2020
Vertretung
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Bakker, Hendrik · Eindhoven
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12.02.2020 · FEI Company
Verfahren zur Detektion von Teilchenstrahlung
Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik
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Status
Angemeldet am 09.11.2016
Erteilt am 12.02.2020
Vertretung
Janssen, Francis-Paul · Eindhoven
Bakker, Hendrik · Eindhoven
Zusammenfassung
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Vertretene Patentanmelder
Die Patentanmelder, die Bakker, Hendrik in den erfassten Patenten am häufigsten vertritt.
| Anmelder | Anzahl Patente |
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| 1. FEI Company | 526 |
| 2. Philips | 26 |
| 3. Max-Planck-Gesellschaft | 4 |
| 4. University of California | 3 |
| 5. Board of Trustees of the University of Illinois | 1 |
Patente nach Jahr
Nach Anmeldejahr. Patentanmeldungen werden in der Regel erst 18 Monate nach der Anmeldung veröffentlicht, daher sind die jüngsten Jahre noch unvollständig. Der graue Balkenanteil zeigt eine Hochrechnung auf Basis der typischen Veröffentlichungsverzögerung: so viele Anmeldungen sind für das Jahr insgesamt zu erwarten.