Gruppierung von Unterstrukturen eines Maskenmusters zur Reduzierung der Linienschrumpfung und zur Verbesserung der Mustergenauigkeit

EP1150171 Art A3 27. August 2003

Anmelder: Infineon Technologies North America Corp., International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1150171
Aktenzeichen: EP01109861
Anmeldetag: 23. April 2001
Veröffentlichung: 27. August 2003
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G03F1/00G03F1/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Infineon Technologies North America Corp.
International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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