Internes Element für Plasmabehandlungsbehälter und Herstellungsverfahren
EP1156130
Art B1
20. Februar 2019
Anmelder: Tocalo Co., Ltd., Tokyo Electron Co., Ltd., TOCALO CO. LTD., TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1156130
- Aktenzeichen
- EP00979084
- Anmeldetag
- 4. Dezember 2000
- Veröffentlichung
- 20. Februar 2019
- Erteilung
- 20. Februar 2019
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B01J19/02C09D1/00C23C4/00C23C4/02C23C4/10C23C4/11H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tocalo Co., Ltd.
Tokyo Electron Co., Ltd.
TOCALO CO. LTD.
TOKYO ELECTRON LIMITED - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
2.414 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Nash, David Allan
Bristol, Großbritannien
1.684
Patente gesamt
32
Fachgebiete
24
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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Haseltine Lake Kempner LLP
Haseltine Lake Kempner LLP · München
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Haseltine Lake LLP
Haseltine Lake LLP · München
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Bond, Bentley George
NoneBristol