Grabenkondensator mit Isolationskragen und entsprechendes Herstellungsverfahren
EP1170804
Art B1
2. April 2008
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1170804
- Aktenzeichen
- EP01115516
- Anmeldetag
- 27. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 2. April 2008
- Erteilung
- 2. April 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/94H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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Reinhard - Skuhra - Weise & Partner
Reinhard - Skuhra - Weise & Partner · München