Methode und Apparat zur Kontrolle des Polierstandes, Poliergerät, Scheibe, Halbleiter und Seine Herstellung

EP1176631 Art B1 22. März 2006

Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1176631
Aktenzeichen: EP00981829
Anmeldetag: 19. Dezember 2000
Veröffentlichung: 22. März 2006
Erteilung: 22. März 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/304B24B37/04G01B11/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

3.320 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von