Methode zur Herstellung eines Porösen SIO2-Films

EP1189267 Art B1 23. Mai 2012

Anmelder: ULVAC, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1189267
Aktenzeichen
EP01917803
Anmeldetag
3. April 2001
Veröffentlichung
23. Mai 2012
Erteilung
23. Mai 2012
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/316H01L21/768
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ULVAC, INC.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

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Kanzlei
Mitscherlich PartmbB München, Deutschland

Mitscherlich wurde 1896 in Berlin gegründet und zog 1951 nach München, direkt in Nähe zu Europäischem Patentamt, DPMA, Bundespatentgericht und der Münchner UPC-Lokalkammer. Sie legt Wert auf Kontinuität und betreut manche Mandate seit Jahrzehnten.

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