Herstellungsverfahren einer Halbleitervorrichtung durch Niedrigenergie Höhenkippwinkel Ionenimplantation

EP1190442 Art A2 27. März 2002

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1190442
Aktenzeichen
EP00939468
Anmeldetag
31. Mai 2000
Veröffentlichung
27. März 2002
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/265H01L21/336H01L21/8238H01L21/266
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Varian Semiconductor Equipment Associates Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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Kanzlei
Marks & Clerk LLP

Marks & Clerk zählt zu den ältesten und international breitesten IP-Kanzleien: 1887 in Birmingham gegründet, ist sie heute mit eigenen Büros auf drei Kontinenten präsent und deckt das gesamte Spektrum des gewerblichen Rechtsschutzes ab.

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