Verfahren zum Erzeugen von Masken-Layout-Daten für die Lithografiesimulation und von optimierten Masken-Layout-Daten

EP1193552 Art B1 20. Juni 2012

Anmelder: Qimonda AG, Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1193552
Aktenzeichen: EP01118800
Anmeldetag: 9. August 2001
Veröffentlichung: 20. Juni 2012
Erteilung: 20. Juni 2012
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/70G03F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Qimonda AG
Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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