Verfahren zum Ätzen von Wismuthaltigen Oxidfilmen

EP1203405 Art A2 8. Mai 2002

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1203405
Aktenzeichen: EP00958225
Anmeldetag: 9. August 2000
Veröffentlichung: 8. Mai 2002
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/311C23F1/26C04B35/453C04B35/475C04B41/53

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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