Verfahren zum Bilden eines Leitermusters auf Dielektrischen Substraten

EP1218566 Art B1 5. März 2003

Anmelder: MKS IP Association, ATOTECH Deutschland GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1218566
Aktenzeichen
EP00960317
Anmeldetag
18. Juli 2000
Veröffentlichung
5. März 2003
Erteilung
5. März 2003
Rechtsraum
EP
IPC
C23F1/02
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
MKS IP Association
ATOTECH Deutschland GmbH
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 MKS IP Association

Der Anmelder MKS IP Association ist eine in Deutschland ansässige Patentverwertungsgesellschaft. Das Portfolio konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Elektronik- und Halbleitertechnik, etwa im Bereich industrieller Reinigungs- und Beschichtungsprozesse. Anmeldungen erfolgten von 2000 bis 2020.

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🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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