Sputtertarget, Transparentes Konduktives Oxid und Vorbereitungsverfahren für Sputtertarget
EP1233082
Art B1
7. Januar 2009
Anmelder: IDEMITSU KOSAN CO., LTD., Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1233082
- Aktenzeichen
- EP00977861
- Anmeldetag
- 22. November 2000
- Veröffentlichung
- 7. Januar 2009
- Erteilung
- 7. Januar 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C04B35/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- IDEMITSU KOSAN CO., LTD.
Idemitsu Kosan Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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