Verfahren zu Durchführung einer Ausrichtungsmessung von zwei Mustern in unterschiedlichen Schichten eines Halbleiterwafers

EP1258834 Art B1 29. Dezember 2004

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1258834
Aktenzeichen: EP01111670
Anmeldetag: 14. Mai 2001
Veröffentlichung: 29. Dezember 2004
Erteilung: 29. Dezember 2004
Rechtsraum: EP
IPC: G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Software & Datenverarbeitung

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