Röntgenprojektionsbelichtungssystem, Röntgen-Projektionsbelichtungs-Verfahren und Halbleiterbauelement

EP1265271 Art A1 11. Dezember 2002

Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1265271
Aktenzeichen: EP01999963
Anmeldetag: 5. Dezember 2001
Veröffentlichung: 11. Dezember 2002
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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