Halbleiterstruktur mit vergrabenen Leiterbahnen sowie Verfahren zur elektrischen Kontaktierung der vergrabenen Leiterbahnen
EP1265288
Art A3
25. März 2009
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1265288
- Aktenzeichen
- EP02010959
- Anmeldetag
- 16. Mai 2002
- Veröffentlichung
- 25. März 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L27/105H01L21/8239H01L21/60H01L27/115H01L21/768
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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