Vorrichtung zur Überwachung von Änderungen in den Behandlungsparametern in Elektronenstrahlgeräten und entsprechendes Überwachungsverfahren
EP1286381
Art B1
25. November 2009
Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1286381
- Aktenzeichen
- EP02004126
- Anmeldetag
- 25. Februar 2002
- Veröffentlichung
- 25. November 2009
- Erteilung
- 25. November 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/304H01J37/317G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi, Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi
Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.
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