Verfahren zur Verringerung von Entwicklungsdefekten in und um Öffnungen in Photolack mittels Mehrfacher Entwickler/spülzyklen

EP1292864 Art B1 18. August 2010

Anmelder: Infineon Technologies North America Corp., International Business Machines Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1292864
Aktenzeichen: EP01948563
Anmeldetag: 21. Juni 2001
Veröffentlichung: 18. August 2010
Erteilung: 18. August 2010
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Infineon Technologies North America Corp.
International Business Machines Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Infineon Technologies North America

Infineon Technologies North America ist die US-amerikanische Tochtergesellschaft des deutschen Halbleiterkonzerns Infineon Technologies. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeicherung und Schaltungstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2015.

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🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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