Poliermittel mit Ceroxid und Verfahren zum Chemisch-Mechanischen Polieren von Siliziumdioxid

EP1292971 Art A2 19. März 2003

Anmelder: Infineon Technologies North America Corp., International Business Machines Corporation, Kabushiki Kaisha Toshiba, KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1292971
Aktenzeichen: EP01948504
Anmeldetag: 20. Juni 2001
Veröffentlichung: 19. März 2003
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3105C09G1/00C09G1/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Infineon Technologies North America Corp.
International Business Machines Corporation
Kabushiki Kaisha Toshiba
KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Infineon Technologies North America

Infineon Technologies North America ist die US-amerikanische Tochtergesellschaft des deutschen Halbleiterkonzerns Infineon Technologies. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeicherung und Schaltungstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2015.

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🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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