Verfahren zum Ätzen von Polysilizium-Gatestapeln auf Angehobenen Flachen Grabenisolationen

EP1292980 Art B1 27. September 2006

Anmelder: Infineon Technologies AG, Infineon Technologies North America Corp. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1292980
Aktenzeichen: EP01946535
Anmeldetag: 19. Juni 2001
Veröffentlichung: 27. September 2006
Erteilung: 27. September 2006
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/8238H01L21/28H01L21/3213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Infineon Technologies AG
Infineon Technologies North America Corp.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Infineon Technologies North America ist die US-amerikanische Tochtergesellschaft des deutschen Halbleiterkonzerns Infineon Technologies. Das Patentportfolio konzentriert sich stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Datenspeicherung und Schaltungstechnik. Anmeldungen reichen von 2000 bis 2015.

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Fachgebiete

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